今年年初，中臺灣方面通過《產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新條例》第10條之2修正案，亦即俗稱「臺版芯片法」。產(chǎn)創(chuàng)條例10之2子法預(yù)計將于明(7)日正式公告實施，明訂研發(fā)費用達60億元、研發(fā)密度（研發(fā)費用占營收凈額之比率）達6%，購置用于先進制程之設(shè)備支出達100億元為申請門檻，亦即符合上述條件才有資格申請投抵。
“經(jīng)濟部”表示，如未符合前述適用條件的公司，仍可申請產(chǎn)創(chuàng)條例第10條研發(fā)投資抵減及第10條之1智能機械投資抵減。
臺灣方面在今年5月1日預(yù)告「公司前瞻創(chuàng)新研究發(fā)展及先進制程設(shè)備支出適用投資抵減辦法」（外界稱為產(chǎn)創(chuàng)條例第10條之2子法）草案，明定支出適用范圍、申請程序與期限、審查機制及相關(guān)事項。該子法并于5月底預(yù)告期滿之后，“經(jīng)濟部”7月中已函送“財政部”，進行確認(rèn)細部文字工作。“經(jīng)濟部”上周已收到“財政部”回函，預(yù)計今日于行政公報發(fā)布實施。
“經(jīng)濟部”與“財政部”協(xié)商后，產(chǎn)創(chuàng)條例10之2子法明訂企業(yè)申請門檻為研發(fā)費用達60億元、研發(fā)密度達6%、購置用于先進制程的設(shè)備支出達100億元，且2023年有效稅率為12%，才能適用第10條之2的租稅減免。
有「臺版芯片法」之稱、產(chǎn)創(chuàng)條例第12條之2，將為半導(dǎo)體、電動車、5G等技術(shù)創(chuàng)新且居國際供應(yīng)鏈關(guān)鍵地位公司，提供租稅優(yōu)惠。其投資于前瞻創(chuàng)新研究發(fā)展之支出25%，得抵減當(dāng)年度應(yīng)納營利事業(yè)所得稅額；購置先進制程之全新機器或設(shè)備，支出金額5%得抵減當(dāng)年度應(yīng)納營利事業(yè)所得稅額，且該機器或設(shè)備支出不設(shè)金額上限。
“經(jīng)濟部”表示，子法明訂適用條件，系考量產(chǎn)創(chuàng)條例第10條之2之立法意旨、業(yè)界實況，并為使公司持續(xù)保有在全球產(chǎn)業(yè)鏈中的關(guān)鍵地位，保持臺灣重要產(chǎn)業(yè)在全世界的競爭優(yōu)勢，進而鼓勵產(chǎn)業(yè)加大力道投入較同業(yè)更高額設(shè)備以及研發(fā)支出。“經(jīng)濟部”呼吁，已接近適用門檻的業(yè)者，更能擴大研發(fā)，以適用租稅優(yōu)惠。
“經(jīng)濟部”表示，由于產(chǎn)創(chuàng)條例中已訂定適用第10條之2租稅優(yōu)惠的有效稅率為12%，以及未來15%的基礎(chǔ)，因此也可促使未達到此稅率基礎(chǔ)的業(yè)者努力達成，穩(wěn)定稅收。
臺版芯片法總說明
近年來由于國際貿(mào)易爭端頻繁與地緣政治風(fēng)險升高，造成主要國家和地區(qū)開始考慮產(chǎn)業(yè)鏈重組問題。為達成相對應(yīng)之政策目標(biāo)，各個國家和地區(qū)政府均開始針對各類前瞻技術(shù)與尖端科技產(chǎn)業(yè)設(shè)計優(yōu)惠政策。以半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)為例，不論是美國的《芯片與科學(xué)法案(CHIPS and Science Act) 》或歐盟的《歐洲芯片法案(European Chips Act) 》，均希望透過各種類型的補貼（包含設(shè)立基金、提供低利貸款或租稅抵免等）吸引具有競爭力之產(chǎn)業(yè)參與者于美國或歐盟進行投資，以于美國及歐盟地區(qū)建立完善且具有競爭優(yōu)勢之半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)聚落。
作為全球半導(dǎo)體重鎮(zhèn)，中國臺灣于2023年1月7日三讀通過《產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新條例》第10條之2修正案（下稱「產(chǎn)創(chuàng)條例修正案」），以提供租稅抵減之方式，提供符合資格之產(chǎn)業(yè)參與者來臺投資之誘因。依同條例第72條，產(chǎn)創(chuàng)條例修正案施行期間，自2023年1月1日起至2029年12月31日止。
上述產(chǎn)創(chuàng)條例修正案設(shè)計之租稅優(yōu)惠類型有二：(1) 「前瞻創(chuàng)新研究發(fā)展支出」之定率（25% ）投資抵減，及(2)購置用于「先進制程」之機器設(shè)備支出之定率（5% ）投資抵減。本文先將欲申請適用此二類租稅優(yōu)惠之法定要件以表格方式整理如下，再分別說明法定要件內(nèi)容。
一、法定要件中之積極要件
(一) 須為「公司」：與產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新條例第10條與第10條之1之規(guī)定不同，目前本次產(chǎn)創(chuàng)條例修正案之投資扣抵僅限「公司組織」申請，有限合伙事業(yè)等非公司組織并不具備申請資格。
(二) 須于「中國臺灣境內(nèi)」進行技術(shù)創(chuàng)新：「中國臺灣境內(nèi)」之定義須待主管機關(guān)于授權(quán)子法中明訂。
倘若一總部位于中國臺灣之跨國/地區(qū)企業(yè)欲申請本次產(chǎn)創(chuàng)條例修正案之投資抵減優(yōu)惠，然而其技術(shù)創(chuàng)新行為系由該企業(yè)位于美國與臺灣之研發(fā)中心共同進行，則該技術(shù)創(chuàng)新行為是否完全不適用本次產(chǎn)創(chuàng)條例修正案之投資抵減優(yōu)惠？或是得依合理比率（例：個別研發(fā)中心之貢獻率）分?jǐn)傆谥袊_灣境內(nèi)與境外之投資支出，并依分?jǐn)偤蠼痤~計算是否符合投資抵減優(yōu)惠之資格？
(三) 須具有「國際供應(yīng)鏈關(guān)鍵地位」：「國際供應(yīng)鏈」與「關(guān)鍵地位」之定義須待主管機關(guān)于授權(quán)子法中明訂。
1. 「國際」供應(yīng)鏈：所謂國際供應(yīng)鏈，是否僅需該產(chǎn)業(yè)供應(yīng)鏈中之任一環(huán)節(jié)有他國籍之參與者即符合？另，產(chǎn)業(yè)參與者之國籍認(rèn)定系依該參與者之設(shè)立地認(rèn)定或依該參與者之最終母公司設(shè)立地認(rèn)定？
2. 「關(guān)鍵地位」：本所認(rèn)為，倘以「維持／創(chuàng)造產(chǎn)業(yè)競爭優(yōu)勢」切入思考，或可借用競爭法之概念，以「不可替代性（質(zhì)性特征）」與「市占率多寡（量化特征）」作為衡量特定公司是否具有供應(yīng)鏈關(guān)鍵地位之參考標(biāo)準(zhǔn)。然而實務(wù)上應(yīng)如何針對不同產(chǎn)業(yè)特性具體化相關(guān)判準(zhǔn)，仍有賴主管機關(guān)以授權(quán)子法明訂。
例：半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)依其產(chǎn)業(yè)特性即可大分為積體電路設(shè)計、晶圓制造以及半導(dǎo)體封裝測試三大部分，且此分類之界線于先進積體電路市場亦愈發(fā)不明確（例：晶圓級封裝技術(shù)使晶圓制造業(yè)者得以跨入封裝測試市場；系統(tǒng)單芯片概念使封裝測試與積體電路設(shè)計產(chǎn)生競合關(guān)系）。此種產(chǎn)業(yè)特性，將導(dǎo)致實務(wù)上難以操作上揭參考標(biāo)準(zhǔn)決定特定公司是否居于關(guān)鍵地位（例：應(yīng)如何決定市場范圍）。
(四) 于同一課稅年度內(nèi)之「研究發(fā)展費用」與「研究發(fā)展費用占營業(yè)收入凈額之比率」須達到一定規(guī)模：具體規(guī)模仍待主管機關(guān)于授權(quán)子法中明訂。惟依修正理由之說明，可知「研究發(fā)展費用」與「營業(yè)收入凈額」均為公司個體綜合損益表之金額。
1. 本款要求之「研究發(fā)展費用」數(shù)額，依法條文義并未限制僅能計入「屬前瞻創(chuàng)新」之研究發(fā)展費用，本所認(rèn)為似得將公司該課稅年度所有帳載「研究發(fā)展費用」均納入計算。
2. 修正后產(chǎn)創(chuàng)條例第10條之2第一項所稱「前瞻創(chuàng)新研究發(fā)展支出金額」，本所認(rèn)為依文義可能包含:
(1)符合相關(guān)會計準(zhǔn)則而予以資本化之發(fā)展支出(Development expenditure) ，及；
(2)費用化之研究發(fā)展費用。
惟目前尚無法確定僅費用化之部分得以作為計算投資抵減之基礎(chǔ)，或資本化與費用化之金額得并計為計算投資抵減之基礎(chǔ)。
(五) 投資之項目需符合定義：公司欲申請本次產(chǎn)創(chuàng)條例修正案投資抵減之研究發(fā)展支出，限于投資于「前瞻創(chuàng)新」之研究發(fā)展支出。而「前瞻創(chuàng)新」之定義須待主管機關(guān)于授權(quán)子法中明訂。另，公司欲申請本次產(chǎn)創(chuàng)條例修正案投資抵減之資本支出，限于「購置供自行使用」于「先進制程」之機器設(shè)備，且購置金額須達「一定規(guī)?！埂６赶冗M制程」與「一定規(guī)?！怪x亦須待主管機關(guān)于授權(quán)子法中明訂。
(六)于申請抵減課稅年度之「有效稅率」須達法定下限：2023年為12% 、2024年后為15% （惟2024年得經(jīng)中央主管機關(guān)會同財政部審酌后調(diào)整為12 % ）
本款之有效稅率=100% X （應(yīng)納稅額-境外所得已繳納之可扣抵稅額-大陸地區(qū)來源所得已繳納之可扣抵稅額-適用之投資抵減稅額總額）／全年所得額
二、法定要件中之消極要件
(一)禁止申請同類投資抵減優(yōu)惠：為避免本次產(chǎn)創(chuàng)條例給予過度之租稅優(yōu)惠，故規(guī)定公司一旦申請適用本條之投資抵減優(yōu)惠，即禁止申請其他同類投資抵減優(yōu)惠。
以「前瞻創(chuàng)新研究發(fā)展支出」之投資抵減為例，倘公司有「屬」前瞻創(chuàng)新之研究發(fā)展支出與「非屬」前瞻創(chuàng)新之研究發(fā)展支出，一旦公司就「屬前瞻創(chuàng)新之研究發(fā)展支出」申請適用定率投資抵減優(yōu)惠，即不得就「非屬」前瞻創(chuàng)新之研究發(fā)展支出申請適用其他同屬「研究發(fā)展支出」類型之租稅優(yōu)惠。
例：假設(shè)A公司X1課稅年度之總研究發(fā)展支出為新臺幣（下同）100億元，其中屬于前瞻創(chuàng)新之研究發(fā)展支出為15億元，符合產(chǎn)創(chuàng)條例第10條之研究發(fā)展支出共計80億元，符合產(chǎn)創(chuàng)條例第10條之1之研究發(fā)展支出為5億元。一旦A公司申請適用修正后產(chǎn)創(chuàng)條例第10條之2（「前瞻創(chuàng)新之研究發(fā)展支出定率投資抵減」），則A公司其余85億元之研究發(fā)展支出，即不得依產(chǎn)創(chuàng)條例第10條或第10條之1申請適用對應(yīng)之投資抵減優(yōu)惠。
(二) 抵減總額不得超過法定上限
1. 「前瞻創(chuàng)新研究發(fā)展支出」之定率投資抵減，不得超過公司特定課稅年度應(yīng)納營利事業(yè)所得稅額之30%
例：假設(shè)B公司符合產(chǎn)創(chuàng)條例第10條之2之適用要件，本年度扣除研究發(fā)展費用前之所得凈額為100元，「前瞻創(chuàng)新研究發(fā)展支出（假設(shè)無資本化數(shù)額）」為x元，營所稅率為20%，有效稅率限制為12%，則以代數(shù)公式表達此項限制如下：
x*25%≤[(100-x)*20%-x*25%]*30%
2. 購置用于「先進制程」之機器設(shè)備支出之定率投資抵減，不得超過公司特定課稅年度應(yīng)納營利事業(yè)所得稅額之30%
3. 公司依各該法規(guī)申請適用之投資抵減總額，不得超過其于特定課稅年度應(yīng)納營利事業(yè)所得稅額之50% ：依修正理由可知，公司于申請本次產(chǎn)創(chuàng)條例修正案之投資抵減優(yōu)惠之課稅年度，如有以往年度申請適用之投資抵減剩余，仍可于該課稅年度合并使用。
(三)三年內(nèi)無違反環(huán)境保護、勞工或食品安全衛(wèi)生相關(guān)法律且情節(jié)重大情事：為免使有重大違反環(huán)保、勞工或食安法令之公司得以享受巨額之租稅優(yōu)惠，故參考同法所設(shè)計之其他租稅優(yōu)惠措施納入此消極要件。
除上述適用稅捐優(yōu)惠的要件外，另需注意產(chǎn)創(chuàng)條例修正案關(guān)鍵法條定義之變更頻率，與節(jié)能減碳之要求?？剂靠萍歼M步快速、重點產(chǎn)業(yè)更迭不斷，臺灣方面于產(chǎn)創(chuàng)條例修正案三讀時，一并通過附帶決議，要求“經(jīng)濟部”應(yīng)每年邀集學(xué)者專家及業(yè)者就「居國際供應(yīng)鏈關(guān)鍵地位」、「前瞻創(chuàng)新研發(fā)」、「先進制程設(shè)備」等名詞定義及關(guān)鍵產(chǎn)業(yè)進行檢討，以利相關(guān)租稅優(yōu)惠能夠符合產(chǎn)業(yè)實際需求。且為符合國際節(jié)能減碳、氣候與永續(xù)與綠色轉(zhuǎn)型之浪潮，臺灣方面亦于附帶決議中要求“經(jīng)濟部”制定相關(guān)政策，評估積極協(xié)助申請產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新條例第10條之2租稅優(yōu)惠時，同時提出節(jié)能減碳具體措施，例如降低及優(yōu)化制程設(shè)備能源使用、強化制程氣體回收及優(yōu)化制程參數(shù)降低溫室氣體排放，以及每年度碳盤查各范疇之資訊公開。
本次產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新條例修正案，亦即第10條之2條文三讀通過，對處于前瞻技術(shù)與尖端科技產(chǎn)業(yè)中之產(chǎn)業(yè)參與者而言不啻為一利多消息。欲申請本次產(chǎn)創(chuàng)條例修正案租稅優(yōu)惠之公司，應(yīng)盡早盤點公司之研究發(fā)展支出與先進制程之性質(zhì)與規(guī)模，以評估公司是否有機會申請本次產(chǎn)創(chuàng)條例修正案之巨額租稅優(yōu)惠。本所稅務(wù)專業(yè)小組由具有島內(nèi)外律師、會計師執(zhí)照之稅務(wù)專家所組成，熟悉島內(nèi)與國際稅法之最新變動趨勢，且與律盟聯(lián)合會計師事務(wù)所密切合作，對于稅捐稽征實務(wù)有深入之了解。如您就本次產(chǎn)創(chuàng)條例修正案有任何疑問，請不吝隨時與本所稅務(wù)專業(yè)小組聯(lián)系。
半導(dǎo)體行業(yè)觀察 2023-08-07 09:53 發(fā)表于安徽
來源：內(nèi)容由半導(dǎo)體行業(yè)觀察（ID：icbank）綜合自經(jīng)濟日報等
原文鏈接：https://mp.weixin.qq.com/s/3scdYqa6ZfZjDt6iWWIBKg
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